教員紹介

小田 昭紀 教授　
博士（工学）（北海道大学）

プロフィール

小田 昭紀

略歴
秋田大学鉱山学部電気工学科卒業
北海道大学大学院工学研究科博士後期課程修了
名古屋工業大学（2001年4月〜2011年3月）
千葉工業大学（2011年4月〜）
自己紹介

秋田県出身．これまで，秋田，盛岡，札幌，名古屋とそれぞれの地方の特色を感じながら幼少時代から学生時代，そして教員時代を過ごし，縁あって2011年4月から本学でお世話になることになりました．当学科の学生の将来に役立つよう教育および研究活動に尽力しています．関東圏での生活は今回が初めてですので，千葉のことをいろいろ教えてもらえれば嬉しいです．

受験生の皆さんへ
大学での生活（学部なら４年間，大学院なら６年間）は，社会に出る直前の大事な時期です．皆さんのやる気次第で面白くもつまらなくもなります．明確でなくて構いませんから「自分は今後どうありたいか」「それに向けて大学で何を学びたいか」を考えてみてください．それが，勉学のみならず私生活も含めた大学生活を充実させる第一歩です．そして，皆さんがこれから学ぶ電気電子工学は，我々の社会を支える重要な分野・学問の１つです．当学科でその基礎から応用までをしっかりと学び，皆さんの将来に役立ててくれることを期待しています．

専門

  • 放電プラズマ工学
  • プラズマエレクトロニクス
  • プラズマ材料科学

キーワード

  • 低温プラズマ
  • 大気圧プラズマ
  • 誘電体バリア放電
  • 容量結合型高周波プラズマ
  • プラズマと細胞との相互作用
  • エキシマランプ
  • ダイヤモンドライクカーボン
  • シミュレーション

研究内容

プラズマは「物質の第４の状態」と呼ばれており，固体（例えば，氷），液体（水），気体（水蒸気）の次の状態として位置づけられ，「プラスとマイナスの電荷がほぼ同数入り交じった電気を通す気体」を表します．放電現象を通じて生成されたプラズマ（放電プラズマ）のもつ様々な特徴をうまく利用して，蛍光灯やプラズマテレビ，脱臭・消臭機能をもった冷蔵庫やエアコン，そしてＰＣや携帯電話，音楽プレーヤーなどの電子機器に使用される半導体製造技術など，我々の生活を快適に営むための基盤技術としてプラズマが利用されています．

本研究室では，計算機シミュレーションと実験の両面からプラズマの特徴（性質）を詳細に調べ，上述のプラズマを利用した技術の更なる性能向上や新しいプラズマの利用方法などについて研究・科学しています．

以下に，当研究室での行われている代表的な実験研究およびシミュレーション研究のいくつかを紹介します．


小田 昭紀


小田 昭紀


小田 昭紀


小田 昭紀

2024年度 (2024.4～2025.3)

学術論文, 国際会議Proc.（査読あり）
  1. T. Ishihara, T. Nakajima, I. Yagi, K. Tachibana, S. Uchida, and A. Oda,“Numerical Analysis of Incident Flux of Chemically Active Species to Living Cells by Nonthermal Atmospheric Pressure Plasma Irradiation”, 17th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 04P-63 (2025.3)
  2. Y. Ninagawa, R. Sugiura, E. Kato, I. Yagi, K. Nagata, H. Yamaoka, K. Tachibana, A. Oda, and S. Uchida,“Relationship Between Apoptosis Induction in Cancer Cells and the Amount of Electrical Stimulation on Frequency Analysis of Nanosecond Pulsed Electric Field”, Electrical Engineering in Japan, Vol.144, No.11, pp.407-414 (2025.1)
  3. S. Uchida, Y. Iijima, R. Tanaka, R. Ninomiya, Y. Ninagawa, I. Yagi, K. Tachibana, A. Oda, T. Sato,“Membrane Permeation Characteristics of Reactive Oxygen Species under Cold Atmospheric Pressure Plasma Irradiation”, Twenty-first International Conference on Flow Dynamics (ICFD 2024), CRF-45 (2024.11)
  4. T. Ohta, H. Kunieda, T. Harigai, A. Oda, and H. Kousaka,“Effect of pulse interval on deposition of diamond-like carbon through high-power impulse magnetron sputtering”, Diamond & Related Materials, Vol.148, 111424 (6 pages) (2024.7)
学会発表
  1. 笠井 直弥, 石原 卓也, 中島 大雅, 立花 孝介, 八木 一平, 内田 諭, 小田 昭紀，｢細胞間の緩衝液が低温大気圧Heプラズマと細胞との電気的相互作用に及ぼす影響の数値解析｣, 令和7年電気学会全国大会, 1-091 (2025.3)
  2. 阿部 元暉, 柿沼 慧多, 太田 貴之, 小田 昭紀：「ターゲット材料がHiPIMSプラズマ基礎特性に及ぼす影響の数値解析」, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 16p-P02-1 (2025.3)
  3. 滝口 達也, 植松 優, 小田 昭紀：「容量結合型RFテトラエトキシシランプラズマ基礎特性の投入電力依存性の計測」, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 16p-P01-1 (2025.3)
  4. 太田 貴之, 三輪 侑生, 小田 昭紀, 針谷 達, 上坂 裕之：「大電力パルススパッタリングを用いたDLC成膜におけるSi添加効果」, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 16a-K403-5 (2025.3)
  5. 中島 大雅, 石原 卓也, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭, 小田 昭紀，｢細胞への低温大気圧プラズマ照射における電圧振幅と駆動周波数が細胞生存率に与える影響の数値解析｣, 第72回応用物理学会春季学術講演会, 14a-P03-3 (2025.3)
  6. 中島 大雅, 石原 卓也, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭, 小田 昭紀：「細胞への低温大気圧プラズマ照射における駆動周波数が細胞生存率に与える影響の解析」, 令和6年度放電学会年次大会, B-1 (2024.12)
  7. 滝口 達也, 小田 昭紀：「絶縁膜形成用テトラエトキシシランプラズマの診断」, 令和6年度放電学会年次大会, A-6 (2024.12)
  8. 石原 卓也, 中島 大雅, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭, 小田 昭紀：｢低温大気圧プラズマ照射による細胞への電力が細胞死に及ぼす影響の数値解析｣, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, 20a-A33-8 (2024.9)
  9. 松本 詩郎, 小田 昭紀, 針谷 達, 上坂 裕之, 太田 貴之：｢大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたDLC 成膜における希ガスの効果｣, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, 19p-B3-3 (2024.9)
  10. 阿部 元暉, 柿沼 慧多, 太田 貴之, 小田 昭紀：｢大電力パルスマグネトロンスパッタリングプラズマにおける放電特性のターゲット電圧依存性｣, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, 16p-P02-4 (2024.9)

2023年度 (2023.4～2024.3)

学術論文, 国際会議Proc.（査読あり）
  1. 上坂 裕之, 小田 昭紀：「Si含有ダイヤモンドライクカーボン膜の応用研究と膜中へのSiの取り込みに関する基礎研究」, 表面と真空, Vol.67, No.2, pp.44-51 (2024.2)
  2. Takuya Ishihara, Taiga Nakajima, Shun Sasaki, Ippei Yagi, Kosuke Tachibana, Satoshi Uchida and Akinori Oda,“Numerical Analysis of Current Propagation into Cells by Nonthermal Atmospheric Pressure Plasma Irradiation”, Proc. of the 16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2024), 05P-P1-42 (Nagoya University , Nagoya, Japan) (2024.3)
  3. Shiro Matsumoto, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta,“Effect of Pulse Frequency on Deposition of Diamond-Like Carbon Using High-Power Pulsed Magnetron Sputtering”, Proc. of the 16th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2024), 05P-P2-23 (Nagoya University , Nagoya, Japan) (2024.3)
  4. Chinatsu Ito, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka,“Effect of increasing residence time of methane on amount of exhausted methane in DLC coating with plasma CVD”, Proc. of the TACT2023 International Thin Films Conference, 0178 (Taipei, Taiwan) (2023.11)
  5. Mao Kamiyama, Yasushi Inoue, Akinori Oda,“Influences of RF power in organosilicon plasmas on SiO:CH deposition processes and film properties”, Proc. of the International Conference on Surface Engineering (ICSE2023), P_073 (Busan Port International Exhibition & Convention Center (BPEX), Busan, South Korea) (2023.11)
  6. Yuta Iwata, Kosuke Takami, Ippei Yagi, Kosuke Tachibana, Akinori Oda, Takehiko Sato and Satoshi Uchida,“Permeation characteristics of hydrogen peroxide through biological membranes by applying electric field”, Proc. of the 35th International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXV ICPIG), P3-43 (Egmond aan Zee, The Netherlands) (2023.7)
学会発表
  1. 太田 貴之, 國枝 滉, 松本 詩郎, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるパルス間隔の効果」, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 25p-12H-8 (2024.3)
  2. 奈良 歳三, 滝口 達也, 小田 昭紀：「SiO2成膜を目的としたRF低圧テトラエトキシシランプラズマの診断 -基板への入射ラジカル種および正イオン種の計測-」, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 24p-P08-2 (2024.3)
  3. 柿沼 慧多, 阿部 元暉, 太田 貴之, 小田 昭紀：「大電力パルスマグネトロンスパッタリングプラズマの空間0次元モデルの構築」, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 24p-P09-1 (2024.3)
  4. 石原 卓也, 佐々木 瞬, 中島 大雅, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭, 小田 昭紀：「低温大気圧プラズマと細胞の電気的相互作用に及ぼす駆動周波数依存性の数値解析」, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 22a-12H-4 (2024.3)
  5. 立花 孝介, 髙見 幸亮, 二宮 諒, 八木 一平, 小田 昭紀, 内田 諭：「大気圧低温プラズマ由来の電界が細胞膜の構造および活性種の膜透過性に与える影響に関する分子動力学シミュレーション」, 第33回日本MRS年次大会, I-I16-003 (2023.11)
  6. 【招待講演】小田 昭紀, 石原 卓也, 中島 大雅, 立花 孝介, 八木 一平, 内田 諭：「大気圧低温プラズマ照射による細胞への電気的相互作用に関する数値解析」, 第33回日本MRS年次大会, I-I16-001 (2023.11)
  7. 奈良 歳三, 滝口 達也, 浅野 佑斗, 小田 昭紀：「RF低圧テトラエトキシシランプラズマにおける基板への入射ラジカル種および正イオン種の計測」, 2024年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 21p-P01-8 (2023.9)
  8. 武田 恵太, 針谷 達, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜における希ガスの効果」, 2024年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 21a-A302-10 (2023.9)
  9. 國枝 滉, 針谷 達, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「ユニポーラダブルパルス大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜」, 2024年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 21a-A302-11 (2023.9)
  10. 石原 卓也, 佐々木 瞬, 上坂 裕之, 小田 昭紀：「DLC成膜用炭化水素ガスの有効利用を目的とした低圧RFプラズマ特性に及ぼす投入電力依存性の数値解析」, 2024年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 22p-P01-2 (2023.9)
  11. 小田 昭紀, 佐々木 瞬, 石原 卓也, 中島 大雅, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭：「低温大気圧Heプラズマ照射による細胞へ及ぼす電気的作用の数値解析」, 2024年第84回応用物理学会秋季学術講演会, 22p-P02-8 (2023.9)
  12. 神山 真大, 井上 泰志, 小田 昭紀：「プラズマCVD法によるSiO:CH薄膜堆積における有機シリコン化合物原料の影響」, 表面技術協会 第148回講演大会, 04B-05 (2023.9)
  13. 小田 昭紀, 石原 卓也, 中島 大雅, 八木 一平, 立花 孝介, 内田 諭：「大気圧プラズマ照射による細胞への電気的応答の数値解析」, 令和5年 電気学会 基礎・材料・共通部門大会, 9-C-a1-1 (2023.9)

2022年度 (2022.4～2023.3)

学術論文, 国際会議Proc.（査読あり）
  1. Hu Li, Koichi Ishii, Shun Sasaki, Mao Kamiyama, Akinori Oda, and Kazuki Denpoh,“Understanding plasma enhanced chemical vapor deposition mechanisms in tetraethoxysilane-based plasma”, J. Vac. Sci. Technol. B, Vol.41, No.2, 022208(12 pages) (2023.3)
  2. 鈴木 駿, 渡邉 泰章, 石井 晃一, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「質量分析によるSi-DLC成膜用Si(CH3)2プラズマから基板への入射フラックスとイオンの計測」, 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, Vol.142, No.6, pp.269-275 (2022.6)
  3. Akinori Oda, Shun Sasaki, Tasuya Sasaki, Yusaku Mita and Ryo Fujita,“Numerical Investigation on RF-Modulated Pulsed He/CH4 Plasmas at Sub-Atmospheric Pressure for Fabrication of Hard Diamond-Like Carbon Films”, Proc. of 15th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th Intarnational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma 2023/IC-PLANTS 2023), 08P-P4-41 (2023.3)
  4. Keita Takeda, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta,“Deposition of Diamond-Like Carbon Film Using Ar/Xe Mixture Gas on High Power Pulsed Magnetron Sputtering”, Proc. of 15th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th Intarnational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma 2023/IC-PLANTS 2023), 08P-P3-33 (2023.3)
  5. Hiro Kunieda, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta,“Deposition of Diamond Like Carbon Using Double-Pulse Target Voltage on High-Power Pulsed Magnetron Sputtering”, Proc. of 15th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th Intarnational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma 2023/IC-PLANTS 2023), 08P-P3-33 (2023.3)
  6. Shun Sasaki, Takuya Ishihara, Hiroyuki Kousaka and Akinori Oda,“Numerical Analysis of Effective Utilization of CH4 Gas in Ar/CH4 Plasma for DLC Films Deposition”, Proc. of 15th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 16th Intarnational Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma 2023/IC-PLANTS 2023), 07P-P1-12 (2023.3)
  7. Yuta Iwata, Ippei Yagi, Kosuke Tachibana, Akinori Oda, Takehiko Sato, and Satoshi Uchida,“Changes in the permeation characteristics of ROS through biological membranes by discharge plasma-Induced electric field”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), HT4.00094 (2022.10)
  8. Akinori Oda, Shun Sasaki, and Ryo Fujita,“Numerical Analysis of Fundamental Properties in Sub-atmospheric Pressure He/CH4 Pulsed Plasmas for Hard Coating of Diamond-Like Carbon Thin Films”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), HT4.00030 (2022.10)
  9. Sota Okumura, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka, and Takayuki Ohta,“Deposition of hydrogenated diamond-like carbon using high power impulse magnetron sputtering”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), GR5.00004 (2022.10)
  10. Keita Takeda, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka, and Ohta Takayuki,“Effect of xenon gas on deposition of diamond-like carbon film using high power pulsed magnetron sputtering”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), GR5.00003 (2022.10)
  11. Hiro Kunieda, Akinori Oda, Kousaka Hiroyuki, and Ohta Takayuki,“Gas phase diagnostics on high power pulsed magnetron sputtering using double-pulse target-voltage”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), GR5.00002 (2022.10)
  12. Takayuki Ohta, Jo Matsushima, Sota Okumura, Akinori Oda, and Hiroyuki Kousaka,“Effect of pulse width on deposition of diamond-like carbon on high power pulsed magnetron sputtering”, Proc. of 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), GR5.00001 (2022.10)
学会発表
  1. 岩田 優太, 髙見 幸亮, 八木 一平, 立花 孝介, 小田 昭紀, 佐藤 岳彦, 内田 諭：「電界印加による過酸化水素の生体膜透過特性」, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 17a-A409-3 (2023.3)
  2. 太田 貴之, 國枝 滉, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「ユニポーラダブルパルス印加大電力パルススパッタを用いたDLC成膜」, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PB03-6 (2023.3)
  3. 杉野 拓海, 佐々木 瞬, 小田 昭紀, 山内 翔太, 八木 一平, 内田 諭, 立花 孝介：「バイオ応用を目的とした大気圧Heプラズマの細胞に対する電気的作用の数値解析」, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PA02-9 (2023.3)
  4. 石原 卓也, 佐々木 瞬, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「原料ガスの有効利用を目的とした低圧Ar/CH4のプラズマ特性に及ぼす投入電力依存性の数値解析」, 2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PA02-3 (2023.3)
  5. 奈良 歳三, 柿沼慧多, 吉沢 海斗, 小田 昭紀：「Si-DLC成膜を目的としたSi含有炭化水素プラズマの診断」, 表面技術協会 第147回講演大会, P-30 (2023.3)
  6. 神山 真大，井上 泰志，小田 昭紀：「有機シリコンプラズマCVDにおけるSiO:CH 堆積過程に対する投入電力の影響」, 表面技術協会 第147回講演大会, P-12 (2023.3)
  7. 太田 貴之, 松島 丈, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「大電力パルススパッタを用いたDLC成膜における投入電力密度の効果」, 2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会, 22a-A202-9 (2022.9)
  8. 佐々木 瞬, 上坂 裕之, 小田 昭紀：「低圧Ar/CH4プラズマの排気ガス組成の数値解析」, 2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会, 22a-P04-6 (2022.9)
  9. 神山真大, 井上 泰志, 小田 昭紀：「Ar/O2/TMMOSプラズマにより堆積したSiO:CH膜の諸特性に対するガス混合比の影響」, 表面技術協会 第146回講演大会, 07B-17 (2022.9)
  10. 奥村 壮太, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「大電力パルススパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるメタンガス導入効果」, 表面技術協会 第146回講演大会, 06B-10 (2022.9)
  11. 武田 恵太, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「大電力パルススパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるキセノンガスの効果」, 表面技術協会 第146回講演大会, 06B-09 (2022.9)
  12. 國枝 滉, 小田 昭紀, 上坂 裕之, 太田 貴之：「大電力パルススパッタリングを用いたダイヤモンドライクカーボン成膜におけるパルス制御の効果」, 表面技術協会 第146回講演大会, 06B-08 (2022.9)
  13. 佐々木 瞬, 藤田 諒, 山内 翔太, 内田 諭, 立花 孝介, 小田 昭紀：「細胞への電気穿孔を目的とした大気圧He/N2グロー放電における印加電圧依存性の数値解析」, 令和4年 電気学会 基礎・材料・共通部門大会, 13-D-p1-5 (2022.9)

2021年度 (2021.4～2022.3)

学術論文, 国際会議Proc.（査読あり）
  1. 末松 孝太, 上坂 裕之, 古木 辰也, 清水 徹英, 太田 貴之, 小田 昭紀：「基材包囲型マグネトロンスパッタリング装置のHiPIMSおよびDCMS駆動の比較」, 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, Vol.142 No.3, pp.101-107 (2022.3)
  2. 太田 貴之, 大串 陸人, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「大電力パルススパッタリングを用いた有機基板へのダイヤモンドライクカーボン成膜」, 表面技術, Vol.73 No.1, pp.47-52 (2022.1)
  3. Y. Watanabe, K. Ishii, S. Sasaki, M. Kamiyama, A. Oda, H. Kousaka, and T. Ohta,“Measurement of Tetramethylsilane Plasma properties and Film Evaluation for Si-containing DLC film Deposition”, INTERFINISH 2020, P-G2-003 (2020.9)
学会発表
  1. 佐々木 瞬，藤田 諒，山内 翔太，内田 諭，立花 孝介，小田 昭紀：「プラズマ照射が生体細胞へ及ぼす影響の解明に向けた大気圧He/N2グロー放電のシミュレーション」, 第69回応用物理学会春季学術講演会, 26a-P03-14 (2022.3)
  2. 石井 晃一, 佐々木 瞬, 神山 真大, 小田 昭紀, 渡邉 泰章, 上坂 裕之, 太田 貴之：「低圧TEOSガスRFプラズマから基板への入射ラジカル種および正イオン種の質量分析」, 第69回応用物理学会春季学術講演会, 25p-E104-5 (2022.3)
  3. 太田 貴之, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「大電力パルススパッタを用いたプラスチック基板上への水素フリーDLC成膜」, 第69回応用物理学会春季学術講演会, 24p-E204-4 (2022.3)
  4. 藤田 諒, 木村 勇太, 小田 昭紀：「DLC成膜用準大気圧He/CH4RF変調パルスプラズマ特性に及ぼす変調周波数依存性の数値解析」, 令和4年度電気学会全国大会, WEB6-A3 (2022.3)
  5. 藤田 諒, 木村 勇太, 小田 昭紀：「DLC成膜用準大気圧He/CH4パルスプラズマ特性に及ぼす印加電圧波形の影響の数値解析」, 第39回プラズマプロセシング研究会/第34回プラズマ材料科学シンポジウム, LO26-AM-A-02 (2022.1)
  6. 奈良 歳三，藤田 諒, 佐々木 瞬, 小田 昭紀：「大気圧Heパルスプラズマ特性に及ぼす繰り返し周波数依存の数値解析」, 2021年度 放電学会年次大会, A-4 (2021.12)
  7. 太田 貴之, 松島 丈, 小田 昭紀, 上坂 裕之：「DLC成膜用カーボンHiPIMSのプラズマ診断(3)～イオンエネルギーの時間変化～」, 第82回応用物理学会秋季学術講演会, 22p-P01-9 (2021.9)
  8. 石井 晃一, 佐々木 瞬, 神山 真大, 小田 昭紀, 渡邉 泰章, 上坂 裕之, 太田 貴之：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンのガス流量依存性の計測」, 第82回応用物理学会秋季学術講演会, 22a-P08-6 (2021.9)
  9. 佐々木 瞬，石井 晃一，小田 昭紀：「DLC成膜用低圧C2H2プラズマ特性に及ぼす様々な外部パラメータ依存性の数値解析」, 第82回応用物理学会 秋季学術講演会, 22a-P08-11 (2021.9)
  10. 石井 晃一, 鈴木 駿, 小田 昭紀, 渡邉 泰章, 上坂 裕之, 太田 貴之：「RF低圧テトラメチルシランプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンの入力電力依存性の計測」, 令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会, 1-B-p1-1 (2021.9)
  11. 佐々木 瞬，石井 晃一，小田 昭紀：「DLC成膜用低圧C2H2プラズマ特性に及ぼす圧力依存性の数値解析」, 令和3年電気学会 基礎・材料・共通部門大会, 1-B-p1-2 (2021.9)
  12. 神山 真大, 小田 昭紀：「アルゴン希釈メタンプラズマにおける生成粒子種の計測実験」, 第11回電気学会東京支部学生研究発表会, 2-15 (2021.8)
  13. 石井 晃一, 鈴木 駿, 小田 昭紀, 渡邉 泰章, 上坂 裕之, 太田 貴之：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマ特性の計測 －プラズマ特性に及ぼすガス流量および投入電力の影響－」, 電気学会放電・プラズマ・パルスパワー合同研究会, EPP-21-052 (2021.5)

2020年度 (2020.4～2021.3)

著書
  1. 膜タンパク質工学ハンドブック, 津本浩平, 浜窪隆雄 監修, (株)エヌ・ティー・エス (2020.4)
学会発表
  1. 渡邉泰章，鈴木駿，石井晃一，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマ特性へ及ぼす投入電力の影響の計測」, 第68回 応用物理学会 春季学術講演会, 18p-Z17-10 (2021.3)
  2. 石井晃一，鈴木駿，小田昭紀，渡邉泰章，太田貴之，上坂裕之：「RF低圧テトラメチルシランプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンのガス流量依存性の計測」, 第68回 応用物理学会 春季学術講演会, 19a-P04-5 (2021.3)
  3. 佐々木瞬，石井晃一，小田昭紀：「DLC成膜用低圧高周波Ar/CH4プラズマ特性に及ぼす希釈Ar濃度の影響の数値解析」, 令和3年電気学会全国大会, WEB 9-A2 1-105 (2021.3)
  4. 藤田諒，木村勇太，小嶋正宏，小田昭紀：「DLC成膜用準大気圧He/CH4パルスプラズマ特性へ及ぼす繰り返し周波数依存性の数値解析」, 令和3年電気学会全国大会, WEB 9-A2 1-108 (2021.3)
  5. 鈴木駿，石井晃一，渡邉泰章，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマ中のイオンおよびラジカルの質量分析」, 電気学会誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会, DEI-21-031 / EPP-21-031 / HV-21-031 (2021.1)
  6. 木村勇太，藤田諒, 小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「非平衡大気圧He/CH4パルスプラズマのシミュレーション -印加電圧の波形パラメータが電極への入射イオン特性に及ぼす影響-」, 電気学会誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会, DEI-21-032 / EPP-21-032 / HV-21-032 (2021.1)
  7. 鈴木駿，石井晃一，小田昭紀，渡邉泰章，太田貴之，上坂裕之：「RF低圧TMSプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンの圧力依存性」, 表面技術協会 第142回講演大会, B01-03 (2020.9)
  8. 石井晃一，小川慎，小田昭紀：「低圧RFAr/CH4プラズマCVDによるDLC成膜過程に及ぼす投入電力の影響に関する数値解析」, 第81回応用物理学会秋季学術講演会, 10a-Z03-8 (2020.9)
  9. 鈴木駿，石井晃一，小田昭紀，渡邉泰章，太田貴之，上坂裕之：「RF低圧テトラメチルシランプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンの外部パラメータ依存性」, 第81回応用物理学会秋季学術講演会, 8a-Z04-14 (2020.9)
  10. 木村勇太，小田昭紀：「二周波駆動低圧Ar/CH4プラズマ特性に及ぼす駆動周波数の影響の解析」, 第81回応用物理学会秋季学術講演会, 8a-Z04-4 (2020.9)
  11. 藤田諒，木村勇太，小嶋正宏，小田昭紀：「非平衡準大気圧Heパルスプラズマの流体シミュレーション」, 令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会, 1-B-p1-3 (2020.9)
  12. 石井晃一，小川慎，小田昭紀：「低圧高周波Ar/CH4プラズマCVDによるDLC成膜メカニズムの解析」, 令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会, 3-B-a1-2 (2020.9)
  13. 鈴木駿，石井晃一，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之，渡邉泰章：「RF低圧テトラメチルシランプラズマにおける基板への入射ラジカルおよびイオンの質量分析」, 令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会, 1-P-B-8 (2020.9)
  14. 木村勇太，藤田諒，小嶋正宏，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「非平衡大気圧He/CH4パルスプラズマ特性に及ぼす印加電圧波形の影響の解析」, 令和2年電気学会基礎・材料・共通部門大会, 3-P-B-7 (2020.9)

2019年度 (2019.4～2020.3)

学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. Kazunori Iga, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka, Takayuki Ohta,“Formation of diamond-like carbon film using high-power impulse magnetron sputtering”, Thin Solid Films 672, pp.104–108 (2019)
  2. A. Oda, M. Kojima, Y. Kimura, T. Ohta, H. Kousaka,
    “Computational Study on Fundamental Properties of Pulsed Discharge at Atmospheric-Pressure for Hard Coatings Technolgy by Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition”
    Proc. of the 34th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, PO18AM-014 (Sapporo Education and Culuture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan) (2019.7)
学会発表
  1. 木村勇太, 小川慎, 小嶋正宏, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「二周波駆動低圧Ar/CH4プラズマにおける基板へのイオンおよびラジカルフラックスの解析」, 2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 15a-PB2-17 (2020.3)
  2. 渡邉泰章, 鈴木駿, 石井晃一, 小田昭紀, 太田貴之, 上坂裕之：「異なる希釈ガスを用いたRF 低圧テトラメチルシランプラズマにおける電極への入射ラジカルの質量分析」, 2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 15a-PB2-11 (2020.3)
  3. 小川慎, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「Ar/CH4プラズマCVDモデルにおけるAr混合比がDLC膜表面および水素含有率に及ぼす影響の解析」, 2020年第67回応用物理学会春季学術講演会, 12P-A205-2, (2020.3)
  4. 小嶋正宏, 木村勇太, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「大気圧炭化水素パルスプラズマにおける電極への入射イオンエネルギーに及ぼす繰り返し周波数依存性の解析」, 令和2年電気学会全国大会, 1-107 (2020.3)
  5. 鈴木駿, 石井晃一, 太田貴之, 上坂裕之, 渡邉 泰章, 小田昭紀：「RF低圧テトラメチルシランプラズマにおける電極へ入射するイオンエネルギーの質量分析」, 令和2年電気学会全国大会, 1-066 (2020.3)
  6. 藤田諒，木村勇太，小嶋正宏，太田貴之, 上坂裕之，小田昭紀：「大気圧He/CH4プラズマ特性のCH4濃度依存性に関する解析」, 放電学会年次大会, 1-2 (2019.11)
  7. 小嶋正宏, 木村勇太, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「大気圧He/CH4プラズマ特性に及ぼすパルス電圧の繰り返し周波数依存性の解析」, 令和元年電気学会基礎・材料共通部門大会, 3-P-38 (2019.9)
  8. 木村勇太, 小嶋正宏, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「大気圧He/CH4プラズマ特性に及ぼすガス流量による影響の解析」, 令和元年電気学会基礎・材料共通部門大会, 4-D-a1-5 (2019.9)
  9. 小川慎, 太田貴之, 上坂裕之, 小田昭紀：「H2/CH4プラズマCVDモデルにおけるH2希釈率がDLC堆積速度に及ぼす影響の解析」, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, 19A-24 (2019.9)
  10. 鈴木駿, 小川慎, 石井晃一, 太田貴之, 上坂裕之, 渡邉 泰章, 小田昭紀：「異なる希釈ガスを用いたRF低圧テトラメチルシランプラズマにおける電極への入射イオンの質量分析」, 第80回応用物理学会秋季学術講演会, 18a-PA6-4 (2019.9)
  11. 藤田諒, 小田昭紀：「大気圧Heグロー放電に及ぼす誘電体材料の影響の解析」, 電気学会東京支部第10回学生研究発表会, 10-12 (2019.8)
  12. 石井晃一, 小田昭紀：「容量結合型RF低圧Arプラズマのシミュレーション ―プラズマ特性に及ぼす入力電力の影響―」, 電気学会東京支部第10回学生研究発表会, 9-10 (2019.8)

2018年度 (2018.4～2019.3)

学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. K. Hattori, T. Ohta, A. Oda, and H. Kousaka,“Noncontact measurement of substrate temperature by optical low-coherence interferometry in high-power pulsed magnetron sputtering”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.57, 01AC03(5 pages) (2018.1)
学会発表
  1. 大野祐也，永井雅之，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマ特性の計測-プラズマ基礎特性のガス流量依存性-」, 2019年第66回応用物理学会春季学術講演会, 12a-PB1-9 (2019.3)
  2. 小川慎, 小田昭紀, 太田貴之, 上坂裕之：「低圧RF容量結合型炭化水素プラズマによるDLC膜堆積モデルの構築」, 2019年第66回応用物理学会春季学術講演会, 11a-PA5-12 (2019.3)
  3. 小嶋正宏, 大木一真, 小田 昭紀：「アモルファスカーボン成膜用 大気圧 He/CH4プラズマの数値解析 」, 平成30年 電気学会全国大会, 1-084 (2019.3)
  4. 永井雅之, 大野祐也, 上坂裕之, 太田貴之, 小田昭紀：「容量結合型RFプラズマCVD法によるSi含有DLC膜の作製およびその評価」, 表面技術協会 第139回講演大会, 19A-24 (2019.3)
  5. 永井雅之, 大野祐也, 上坂裕之, 太田貴之, 小田昭紀：「Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマの計測」, 表面技術協会 138回講演大会 13B-03, (2018.9)
  6. 小嶋正宏, 大木一真, 小田昭紀, 太田貴之, 上坂裕之：「炭素材料創製用非平衡大気圧炭化水素プラズマの基板入射フラックスに関する数値解析」, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, 21p-PB1-16 (2018.9)
  7. 小田昭紀, 小嶋正宏, 大木一真 , 太田貴之, 上坂裕之：「アモルファス炭素膜創製用大気圧炭化水素プラズマのシミュレーション」, 平成30年基礎・材料・共通部門大会, 5-F-a1-3 (2018.9)
  8. 大野祐也，永井雅之，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「質量分析及びプローブ計測によるSi含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマの診断」, 平成30年基礎・材料・共通部門大会 a部門大会，5-F-a1-1 (2018.9)
  9. 大野祐也，永井雅之，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「Si含有DLC成膜用炭化水素プラズマの診断-プラズマ基礎特性の電力依存性-」,電気学会 プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会, ED-18-048/PPP-18-030 (2018.5)

2017年度 (2017.4～2018.3)

著書
  1. わかりやすい電磁気学 脇田和樹, 小田昭紀, 清水邦康 ムイスリ出版株式会社 (2017.5)
学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. 小森郷平，小田昭紀：「高周波駆動型非平衡大気圧Heプラズマ基礎特性に及ぼす不純物N2濃度の影響」, 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, Vol.137, pp.570-576 (2017.10)
学会発表
  1. 大木一真，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「炭素材料創製用非平衡大気圧炭化水素プラズマのシミュレーション」, 20a-C204-4 (2018.3)
  2. 永井雅之，大野祐也，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「Si含有DLC成膜用TMSプラズマの診断-プラズマ基礎特性のガス圧力依存性-」, 平成30年 電気学会全国大会, 1-069 (2018.3)
  3. 小川慎，大野祐也，小田昭紀，太田貴之，上坂裕之：「質量分析器によるDLC成膜用メタンプラズマの診断」, 平成30年 電気学会全国大会, 1-070 (2018.3)
  4. 小嶋正宏, 大木一真，小森恭平，小田昭紀：「大気圧高周波Heプラズマにおける放電モードの遷移メカニズムに関する数値解析」, 平成30年 電気学会全国大会, 1-085 (2018.3)
  5. 大野祐也，小田昭紀：「DLC成膜用Ar/CH4プラズマの診断－プラズマ基礎特性のガス流量依存性－」, 平成29年電気学会 基礎・材料・共通部門大会(A部門大会), 19-P-15 (2017.9)
  6. 大木一真，小田昭紀，太田 貴之，上坂 裕之：「炭素薄膜成膜用非平衡大気圧He/H2/CH4プラズマのシミュレーション」, 2017年 第78回応用物理学会秋季学術講演会, 7p-A413-2 (2017-9)
  7. 永井雅之，小田昭紀：「DLC成膜用炭化水素プラズマの診断 -プラズマ基礎特性のガス圧力及びガス流量依存性-」，2017年度 電気学会東京支部主催第8回学生研究発表会（2017.9）
  8. 小嶋正宏，小田昭紀：「大気圧非平衡プラズマのシミュレーション及び基礎特性の解析」，2017年度 電気学会東京支部主催第8回学生研究発表会（2017.9）
  9. 小川慎，小田昭紀：「RF低圧Ar/CH4プラズマの診断」，2017年度 電気学会東京支部主催第8回学生研究発表会（2017.9）

2016年度 (2016.4～2017.3)

著書
  1. ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用　表面技術協会 編　コロナ社　(2016.12)
学会発表
  1. 大野祐也，小田昭紀：「質量分析及びプローブによるDLC成膜用炭化水素プラズマの診断」，平成29年電気学会全国大会，E33-B1 1-109 (2017.3)
  2. 大木一真，小田昭紀：「DLC成膜用炭化水素プラズマ基礎特性に及ぼす希釈Arガスの影響」，平成29年電気学会全国大会，E33-B1 1-108 (2017.3)
  3. 深井駿，大野裕也，小田昭紀：「DLC成膜用Ar/CH4プラズマの質量分析およびプローブ診断」，2017年 第64回応用物理学会秋季学術講演会， 14p-P1-7 (2017.3)
  4. 小森郷平，小田昭紀：「非平衡大気圧Heグロー放電の基礎特性と径方向均一性に及ぼす不純窒素ガス濃度の影響」，2017年 第64回応用物理学会秋季学術講演会，17p-315-3 (2017.3)
  5. 大野祐也，深井駿，小田昭紀：「発光分光及び質量分析による容量結合型RF窒素プラズマの診断」，放電学会年次大会，P-12（2016.11）
  6. 大木一真，小田昭紀：「DLC成膜用低圧高周波炭化水素プラズマのシミュレーション -基板への入射粒子フラックスに関する検討-」，放電学会年次大会，2-4 (2016.11)
  7. Kyohei Komori, Akinori Oda, Takeshi Uruma, Nobuo Satoh and Hidekazu Yamamoto, "Investigation on the Surface Potential and the Depletion Layer of Si-Schottky Barrier Diode -Evaluation by Scanning Probe Microscopy-", The 19th International Conference on Electrical Machines and Systems, DS4G-2-2 (2016.11)
  8. Takeshi Uruma, Nobuo Satoh, Kyohei Komori, Akinori Oda and Hidekazu Yamamoto, "Investigation on the Surface Potential and the Depletion Layer of Si-Schottky Barrier Diode -Evaluation by Numerical Calculation-", The 19th International Conference on Electrical Machines and Systems, DS4G-2-1 (2016.11)
  9. 大木一真，小田昭紀：「ダイヤモンドライクカーボン成膜用低圧高周波炭化水素プラズマの二次元流体シミュレーション」，電気学会 プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会, PST-16-081/PPT-16-061/ED-16-177 (2016.10)
  10. 深井駿，大野裕也，小田昭紀：「四重極質量分析法によるダイヤモンドライクカーボン成膜用炭化水素プラズマの診断」，プラズマ/パルスパワー/放電研究会，PST-16-082/PPT-16-062/ED-16-178 (2016.10)
  11. 山本秀和，小森郷平，小田昭紀，潤間威史，佐藤宣夫：「パワーデバイス内部の空乏層の評価（2）数値計算との比較パワーデバイス用結晶の評価（XX）」，2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会，15p-A23-4 (2016.9)
  12. 山本秀和，潤間威史，佐藤宣夫，小森郷平，小田昭紀：「パワーデバイス内部の空乏層の評価（1）多機能走査型プローブ顕微鏡による評価（XIX）」，2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会，15p-A23-3 (2016.9)
  13. 小森郷平，小田昭紀：「誘電体材料特性が大気圧He/N2グロー放電基礎特性に及ぼす影響」，電気学会 基礎・材料・共通部門大会，5-E-p2-2 (2016.9)
  14. Akinori Oda, Kazuma Ohki, Satoru Kawaguchi, Kohki Satoh, Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta, "Axially-symmetric Three-Dimensional Fluid Modelling of Capacitively-Coupled Radio-Frequency TetraMethylSilane Plasmas for Silicon-containing Diamond-Like Carbon Thin-Films Deposition", 15th International Conference on Plasma Surface Engineering, PO4014 (2016.9)
  15. 大野祐也，小田昭紀：「DLC成膜用炭化水素プラズマ質量分析」，2016年度 電気学会東京支部第7回学生研究発表会，5-12（2016.8）
  16. 小田昭紀，小森郷平：「非平衡大気圧ヘリウムプラズマのシミュレーション-誘電体特性がプラズマ基礎特性に及ぼす影響-」，電気学会プラズマ/放電/パルスパワー合同研究会，PST-16-003/PPT-16-003-052/ED-16-030 (2016.5)
  17. 大木一真，小田昭紀：「ダイヤモンドライクカーボン成膜用低圧高周波炭化水素プラズマのシミュレーション」，平成28年電気学会全国大会，A103-A4 1-054 (2016.3)
  18. 深井駿，小田昭紀，上坂 裕之，太田 貴之：「質量分析によるDLC成膜用Ar/CH4プラズマの診断」，2016年 第63回応用物理学会秋季学術講演会，21p-P2-3 (2016.3)
  19. 小森郷平，小田昭紀：「非平衡大気圧ヘリウムプラズマの均一性と温度上昇に及ぼす誘電体材料の影響」，電気学会放電研究会，ED-16-024 (2016.3)

2015年度 (2015.4～2016.3)

学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. A. Oda and K. Komori,“Influence of dielectric materials on radial uniformity in non-equilibrium atmospheric pressure helium plasma”, Proc. of International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9)/Gaseous Electronics Conference (GEC 2015), LW1.00062 (2015.10)
  2. A. Oda, S. Fukai, H. Kousaka and T. Ohta,“Diagnostics of capacitively-coupled hydrocarbon plasmas for deposition of diamond-like carbon films using quadrupole mass spectrometry and Langmuir probe”, Proc. of International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9)/Gaseous Electronics Conference (GEC 2015), GT1.00074 (2015.10)
  3. Y. Suda, R. Yamashita, K. Yusa, T. Harigai, H. Takikawa, A. Oda and R. Tero,“Measurement of the diffusion coefficient of supported lipid bilayer irradiated with dielectric barrier discharge”, Proc. of International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9)/Gaseous Electronics Conference (GEC 2015), WF4.00006 (2015.10)
  4. T. Ohta, K. Hattori, A. Oda, and H. Kousaka,“Non-contact temperature measurement of silicon substrate in sputtering plasma using optical interferometer”, Proc. of International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-9)/Gaseous Electronics Conference (GEC 2015), GT1.00160 (2015.10)
  5. A. Oda and H. Kousaka,“Numerical Analysis of Substrate-Incident Carbon Flux in Low-Pressure Radio-Frequency CH4 Plasmas for Deposition of Diamond-Like Carbon Films”, Electronics and Communications in Japan, Vol.98, No.9, pp.31-39 (2015.9)
  6. Yoshiyuki Suda, Akinori Oda, Ryo Kato, Ryuma Yamashita, Hideto Tanoue, Hirofumi Takikawa, and Ryugo Tero,“Computational study of temporal behavior of incident species impinging on a water surface in dielectric barrier discharge for the understanding of plasma-liquid interface”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol.54, 01AF03 (2015.1)
学会発表
  1. 大木一真，小田昭紀: 「容量結合型高周波アルゴンプラズマのシミュレーション -プラズマ特性に及ぼすブロッキングコンデンサの影響-」，放電学会年次大会，P-3 (2015.12)
  2. Akinori Oda and Kyohei Komori, "Influence of Dielectric Materials on Radial Uniformity in Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Helium Plasma", 9th Internetional Conference on Reactive Plasmas/68th Gaseous Electronics Conference/33rd Symposium on Plasmas Processing, LW1.00062 (2015.10)
  3. Akinori Oda and Fukai Shun, "Diagnostics of Capacitively-Coupled Hydrocarbon Plasmas for Deposition of Diamond-Like Carbon Films using Quadrupole Mass Spectrometry and Langmuir Plobe", 9th Internetional Conference on Reactive Plasmas/68th Gaseous Electronics Conference/33rd Symposium on Plasmas Processing, GT1.00074, (2015.10)
  4. 深井駿，小田昭紀，上坂裕之，太田貴之：「ダイヤモンドライクカーボン成膜用炭化水素プラズマの質量分析およびプローブ診断」，2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会，15p-PB2-3 (2015.9)
  5. 小森郷平，小田昭紀：「非平衡大気圧ヘリウムプラズマの均一性に与える誘電体の影響解析」，電気学会 基礎・材料・共通部門大会，18-D-a2-3 (2015.9)
  6. 大木一真，小田昭紀：「容量結合型高周波アルゴンプラズマのシミュレーション -プラズマ特性に及ぼす外部パラメータの影響-」，電気学会東京支部第6回学生研究発表会，No13 (2015.8)
  7. 深井駿，小田昭紀：「ダイヤモンドライクカーボン成膜用炭化水素プラズマの質量分析およびプローブ測定」，私立大学戦略的研究基盤形成支援事業シンポジウム，P-13 (2015.8)
  8. 小森郷平，大木一真，小田昭紀：「非平衡大気圧ヘリウムプラズマの軸対称3次元流体モデリング－プラズマの径方向均一性に及ぼす誘電体特性の影響－」，私立大学戦略的研究基盤形成支援事業シンポジウム，P-12 (2015.8)
  9. 小森郷平，小田昭紀：「軸対称3次元流体モデルによる非平衡大気圧ヘリウムプラズマのシミュレーション」，電気学会プラズマ/放電/パルスパワー合同研究会，PST-15-034/ED-15-052/PPT-15-034 (2015.6)

2014年度 (2014.4～2015.3)

学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. Takayuki Ohta, Yusuke Sago, Akinori Oda, Hiroyuki Kousaka,
    “Diagnostics of Metastable Ar Atom with Diode Laser Absorption Spectroscopy in RF Magnetron Carbon Sputtering Plasma”, Proceedings of 2014 MRS Fall Meeting & Exhibit, G5.08 (2014.12)
  2. Akinori Oda, Satoru Kawaguchi, Kohki Satoh, Hiroyuki Kousaka, Takayuki Ohta,
    “Computational Study on Fundamental Properties in Capacitively-Coupled Radio-Frequency Tetrametylsilane Plasmas for Diamond-Like Carbon Film Coatings”, Proceedings of 2014 MRS Fall Meeting & Exhibit, G5.02 (2014.12)
  3. Akinori Oda, Satoru Kawaguchi, Kohki Satoh, Hiroyuki Kousaka and Takayuki Ohta,
    “Numerical Simulation on Spatiotemporal Behavior of Charged-Species in Tetrametylsilane Plasmas for Diamond-Like Carbon Coating”, Proceedings of Plasma Conference 2014 (PLASMA2014), 20PA-041 (2014.11)
  4. Haruaki Akashi, Tomokazu, Yoshinaga, Akinori Oda,
    “Recovery Mechanisms of Ozone Zero Phenomena by Adding Nitrogen and Nitrogen Monoxide in Atmospheric Pressure Oxygen Dielectric Barrier Discharges”, IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials, Vol.134, No.7, pp.460-465 (2014.7)
  5. 明石治朗，吉永智一，小田昭紀,
    「二次電子放出係数が大気圧酸素誘電体バリア放電に与える影響について」
    電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌），Vol.134，No.6，pp.410-415（2014年6月）
  6. 小田昭紀，上坂裕之,
    「ダイヤモンドライクカーボン成膜用低圧高周波CH4プラズマにおける基板への入射炭素フラックスに関する数値解析」
    電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌），Vol.134，No.1，pp.53-59（2014年1月）
学会発表
  1. 小森郷平，小田昭紀：「容量結合型非平衡大気圧He/N2プラズマの軸対称3次元流体モデリング」，平成27年電気学会全国大会，1BC-C4 (2015.3)
  2. 深井駿，小田昭紀：「プローブおよび質量分析による高周波容量結合型プラズマの診断」，放電学会年次大会，P-14 （2014-12）
  3. 小森郷平，小田昭紀：「高周波大気圧グロー放電プラズマの軸対称3次元流体モデリング」，放電学会年次大会，P-13 (2014.12)
  4. 深井駿，小田昭紀：「プローブ法による容量結合型RF放電プラズマの診断」，電気学会東京支部第5回学生発表会，No.5 (2014.9）
  5. 小森郷平，小田昭紀：「容量結合型RFアルゴンプラズマの軸対称3次元流体モデリング」，電気学会東京支部第5回学生研究発表会，No.7 (2014.9)

2013年度 (2013.4～2014.3)

著書
  1. 現代電気電子材料　山本秀和、小田昭紀　コロナ社　9月13日
学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. A. Oda, Y. Hirano, K. Ishii,
    “Computational Study on Influence of N2 Addition on Discharge Characteristics of AC PDPs in Xe/Ne Gas Mixture”,
    Proc. of the 20th International Display Workshops (IDW’13), PDP1-3 (4 pages) (2013.12)
  2. H. Akashi, T. Yoshinaga, A. Oda,
    “Recovery mechanism of ozone generation by adding nitrogen in atmospheric pressure dielectric barrier discharges”
    Proc. of the 31st International Conference on Phenomena in Ionized Gases, PS2-030 (4 pages) (2013.7)
  3. M. Shinohara, Y. Takami, S. Takabayashi, A. Oda, Y. Matsuda, H. Fujiyama,
    “Evolution of Hydride Components Generated by Hydrogen Plasma Irradiation of a Si(110) Surface Investigated With In Situ Infrared Absorption Spectroscopy in Multiple Internal Reflection Geometry”
    IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 41, No. 8, pp.1878-1883 (2013.8)

2012年度 (2012.4～2013.3)

学術論文、国際会議Proc.（査読あり）
  1. A. Oda and Y. Hirano,
    “Influence of Nitrogen Addition on Fundamental Discharge Properties in Alternating Current Plasma Display Panels”,
    Electronics and Communications in Japan, Vol. 95, No. 10, pp.37-43 (2012)
  2. H. Akashi, T. Yoshinaga and A. Oda,
    “Effect of secondary electron emission on atmospheric pressure oxygen dielectric barrier discharges”,
    Proc. of XXI Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG), P1.10.10, 2 pages (2012)
  3. Numerical Simulation on Fundamental Properties in Low-Pressure Radio- Frequency CH4 Plasmas for Diamond-Like Carbon Films
    A. Oda and H. Kousaka,
    Proc. of XXI Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG), P2.8.8, 2 pages (2012)

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